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发明名称 Device for Heat Treatment of Semicondu ctor Wafer with Localized Focusing
摘要
申请公布号 KR100553256(B1) 申请公布日期 2006.02.20
申请号 KR20000051473 申请日期 2000.09.01
申请人 发明人
分类号 H01L21/324 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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