发明名称 |
半导体存储装置及便携式电子设备 |
摘要 |
半导体存储装置具有存储功能体(261,262),存储功能体具有以下功能:将电荷保持在经由栅绝缘膜(214)而形成在半导体层(211)上的单一的栅电极(217)的两侧;存储功能体分别含有具有电荷存储区(250)的电荷保持膜(242);电荷存储区(250)横跨沟道区(273)的一部分和配置在沟道区的两侧的扩散区(212,213)的一部分而存在;由于存储功能体独立于栅绝缘膜而形成在栅电极的两侧,因此可以进行2位的动作;进一步,由于各存储功能体由栅电极被分离,因此可有效地抑制改写时的干扰,并且可以使栅绝缘膜薄膜化,并抑制短沟道效果;因而存储元件易于实现微型化。 |
申请公布号 |
CN1732572A |
申请公布日期 |
2006.02.08 |
申请号 |
CN200380107812.6 |
申请日期 |
2003.12.19 |
申请人 |
夏普株式会社 |
发明人 |
岩田浩;柴田晃秀 |
分类号 |
H01L29/788(2006.01);H01L29/792(2006.01);H01L21/8247(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/788(2006.01) |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
钟强;谢丽娜 |
主权项 |
1.一种半导体存储装置,其特征在于,具有:半导体层(102,211,287,411);经由栅绝缘膜(103,214,414)形成在该半导体层上的单一的栅电极(104,217,417);配置在该栅电极下面的沟道区(120,121,273);配置在该沟道区的两侧的扩散区(107a,107b,212,213,412);和形成在该栅电极的两侧、并具有保持电荷的功能的存储功能体(105a,105b,131a,131b,261,262,461,462)。 |
地址 |
日本大阪府大阪市 |