发明名称 Verfahren zur Reduzierung von Artefakterscheinungen in der Raster-Elektronenmikroskopie
摘要
申请公布号 DE69925430(T2) 申请公布日期 2006.02.02
申请号 DE19996025430T 申请日期 1999.09.23
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 DOTAN, NOAM
分类号 H01J37/22;H01J37/28 主分类号 H01J37/22
代理机构 代理人
主权项
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