| 主权项 |
1.一种制造光学玻璃产品之模仁,其包括: 模仁基体,及 位于模仁基体表面之膜层,其中此膜层包括厚度为 50-200埃之类金刚石碳。 2.如申请专利范围第1项所述之制造光学玻璃产品 之模仁,其中上述模仁基体可选择SiC、Si、Si3N4、 ZrO2、TiN、TiO2、TiC、B4C、WC、W或WC-Co合金。 3.一种制造光学玻璃产品之模仁之制造方法,包括 以下步骤: 提供一模仁基体;及 沈积碳颗粒于上述模仁基体之表面,使得类金刚石 碳膜形成于其表面,其厚度为50-200埃。 4.如申请专利范围第3项所述之制造方法,进一步包 括于沈积碳颗之前加热模仁基体。 5.如申请专利范围第3项所述之制造方法,其中类金 刚石碳膜系于10-6Torr之环境下沈积碳颗粒而形成 。 6.如申请专利范围第5项所述之制造方法,其中类金 刚石碳膜系于氢与氩气氛下沈积碳颗粒而形成,且 氢之体积含量为5-20%。 7.如申请专利范围第5项所述之制造方法,其中类金 刚石碳膜系于甲烷与氩气氛下沈积碳颗粒而形成, 且甲烷之体积含量为5-20%。 8.如申请专利范围第3项所述之制造方法,其中类金 刚石碳膜系由离子轰击碳材料从而产生碳颗粒沈 积于模仁基体表面而形成。 9.如申请专利范围第3项所述之制造方法,其中沈积 碳颗粒之沈积率为3.3-8.3埃/秒。 10.如申请专利范围第3项所述之制造方法,其中沈 积碳颗粒之时间为6-60秒。 图式简单说明: 第一图系本发明之模仁之示意图; 第二图系本发明之射频溅射设备之示意图。 |
