| 发明名称 | 表面处理 | ||
| 摘要 | 一种在表面上生成分子单层的方法，该方法包括：用种分子负载印模；将种分子从印模转印到表面上；利用放大反应将种分子放大，生成单层。该方法可以用最初印刷在表面上的不完整或稀疏的单层生成完整单层。 | ||
| 申请公布号 | CN1729048A | 申请公布日期 | 2006.02.01 |
| 申请号 | CN200380106946.6 | 申请日期 | 2003.11.13 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 瑟吉·阿蒙托夫;伊曼纽尔·德拉马奇;布鲁诺·米歇尔 |
| 分类号 | B01J19/00(2006.01);C12Q1/68(2006.01);G01N33/53(2006.01) | 主分类号 | B01J19/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 郭定辉;黄小临 |
| 主权项 | 1.在表面上生成分子单层的方法，该方法包括：用种分子负载印模；将种分子从印模转印到表面上；以及利用放大反应将种分子放大，生成单层。 | ||
| 地址 | 美国纽约阿芒克 | ||