发明名称 化学机械研磨用水系分散体及化学机械研磨方法
摘要 本发明有关一种化学机械研磨用之水系分散体,系以1.5质量%以下的浓度含有含氧化铈之研磨粒之水系分散体,其特征为该研磨粒之平均分散粒径为1.0微米以上。又,本发明有关一种化学机械研磨方法,其特征系使用上述之化学机械研磨用水系分散体研磨绝缘膜者。藉由使用上述化学机械研磨用水系分散体,不会降低研磨速度而可抑制研磨刮伤发生。
申请公布号 TW200602473 申请公布日期 2006.01.16
申请号 TW094123890 申请日期 2005.07.14
申请人 JSR股份有限公司 发明人 池田宪彦;西元和男;服部雅幸;川桥信夫
分类号 C09K3/14;B24B37/04 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人 周登龙
主权项
地址 日本