高分子化合物、含该高分子化合物之光阻组成物及光阻图型之形成方法

摘要

本发明系提供一种化学加强型光阻物系中，曝光前及曝光后之硷溶解性会产生大变化之高分子化合物，及能形成高解像性之细微图型的含该高分子化合物之光阻组成物，以及图型之形成方法。该高分子化合物具有硷可溶性基(i)用之醇性羟基、羧基及苯酚性羟基中所选出任何一种取代基，且该取代基受下列一般式(1)094111227-p01.bmp(式中，A为碳数1至20之具有n＋1价以上价数的有机基；n为1至4之整数)所示酸解离性溶解抑制基(ii)保护。