| 发明名称 | 等离子体处理装置和等离子体处理方法 | ||
| 摘要 | 披露了在不需要增加功率电源所需输出条件下能够改善等离子体处理均匀性的等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括：使用等离子体进行处理的处理腔室(1，2)；和三个或更多个电磁波引入部件(4a至4d、5a至5d、6a至6d、15)，它连接着处理腔室(1，2)，将电磁波引入到处理腔室，使得提供给处理腔室的反应气体进入等离子体状态，其特征在于：对位于接近所述处理腔室(1，2)区域内的所述三个或更多个电磁波引入部件(4a至4d、5a至5d、6a至6d、15)的每两个相邻部件的组合来说，在形成一个所述组合的两个相邻电磁波引入部件之间的距离(X1，Y1)不同于在形成另一个所述组合的两个相邻电磁波引入部件之间的距离(X2，Y2)。 | ||
| 申请公布号 | CN1236657C | 申请公布日期 | 2006.01.11 |
| 申请号 | CN03110402.9 | 申请日期 | 2003.04.09 |
| 申请人 | 夏普株式会社;大见忠弘 | 发明人 | 山本直子;山本達志;平山昌树;大見忠弘 |
| 分类号 | H05H1/46(2006.01);H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | H05H1/46(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 李玲 |
| 主权项 | 1.一种等离子体处理装置，它包括：处理腔室，用于进行利用等离子体的处理；以及，三个或更多个电磁波引入部件(4a至4d、5a至5d、6a至6d、15)，它们连接着所述处理腔室，将电磁波引入到所述处理腔室，使得提供给所述处理腔室的反应气体进入等离子体状态，其特征在于：对位于接近所述处理腔室区域内的所述三个或更多个电磁波引入部件(4a至4d、5a至5d、6a至6d、15)的每两个相邻部件的组合来说，在形成一个所述组合的两个相邻电磁波引入部件之间的距离(X1，Y1)不同于在形成另一个所述组合的两个相邻电磁波引入部件之间的距离(X2，Y2)。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||