发明名称 Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrates mittels mindestens eines Plasma-Jets
摘要 Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (10) zur Bearbeitung eines Substrates (11) mittels mindestens eines Plasma-Jets (13), umfassend ein Behältnis (15), durch welches ein Trägergas entlang einer Strömungsrichtung (x) hindurchströmt, und umfassend eine erste Elektrode (17) und eine zweite Elektrode (18). DOLLAR A Die Besonderheit besteht darin, dass die beiden Elektroden (17, 18) durch wenigstens eine dielektrische Barriere (15) voneinander getrennt sind, dass zwischen den Elektroden (17, 18) zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Glimmentladungs-Plasmas eine Wechselspannung angelegt wird und dass die erste Elektrode (17) von der zweiten Elektrode (18), bezogen auf die Strömungsrichtung (x) des Trägergases, axial (L) und radial (R) beabstandet ist.
申请公布号 DE102004029081(A1) 申请公布日期 2006.01.05
申请号 DE20041029081 申请日期 2004.06.16
申请人 JE PLASMACONSULT GMBH 发明人 ENGEMANN, JUERGEN;KORZEC, DARIUS;TESCHKE, MARKUS
分类号 H05H1/24;H05H1/26;H05H1/34;H05H1/44 主分类号 H05H1/24
代理机构 代理人
主权项
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