微波等离子体处理装置、等离子体处理方法以及微波发射部件

摘要

在处理容器(22)的内部，设有装载台(24)，用来装载半导体晶片(W)。微波发生器(76)产生微波，通过平面天线部件(66)导入到处理容器(22)内。平面天线部件(66)具有沿若干圆周排列的若干贯通孔(84)，所述若干圆是非同心圆。平面天线部件径向的等离子体密度分布均匀。

主权项

1.一种微波等离子体处理装置，用于对被处理基片进行等离子体处理，其特征在于，这种微波等离子体处理装置具有：处理容器，该处理容器内设有装载台，用来装载被处理基片；微波发生器，该微波发生器产生微波并将微波供给所述处理容器；微波发射部件，该微波发射部件设置在微波发生器和所述处理容器之间，用于向所述处理容器内发射微波，所述微波发射部件具有若干贯通孔，这些贯通孔沿着若干圆周排列，这些圆是相互嵌套的非同心圆。