发明名称 光阻剥离制程及光阻剥离装置
摘要 一种光阻剥离制程,包括以下步骤:湿清洗基底以剥离光阻;高速传送基底,同时利用液刀(Aqua Knife)冲洗基底。
申请公布号 TW200600965 申请公布日期 2006.01.01
申请号 TW093119340 申请日期 2004.06.30
申请人 群创光电股份有限公司 发明人 黄志鸿
分类号 G03F7/00 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人
主权项
地址 苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科东三路16号2楼