发明名称 | 光阻剥离制程及光阻剥离装置 | ||
摘要 | 一种光阻剥离制程,包括以下步骤:湿清洗基底以剥离光阻;高速传送基底,同时利用液刀(Aqua Knife)冲洗基底。 | ||
申请公布号 | TW200600965 | 申请公布日期 | 2006.01.01 |
申请号 | TW093119340 | 申请日期 | 2004.06.30 |
申请人 | 群创光电股份有限公司 | 发明人 | 黄志鸿 |
分类号 | G03F7/00 | 主分类号 | G03F7/00 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科东三路16号2楼 |