发明名称 BGA集成电路植珠工艺
摘要 本工艺利用由植珠台本体、芯片定位架、植珠模板、模板架所组成的植珠装置,在植珠过程中始终保持BGA芯片的焊盘向上,使焊盘与锡珠的定位关系能够用人眼直接看到,不需要通过光学系统及显示器间接观察;已经定位的锡珠不容易发生移位或脱落。本工艺可以和多种加热设备配合使用,不需要高精度的光学定位系统支持。在维修电路板的过程中,大大降低设备成本和芯片费用。
申请公布号 CN1233027C 申请公布日期 2005.12.21
申请号 CN02131354.7 申请日期 2002.10.08
申请人 王卫平 发明人 王卫平
分类号 H01L21/50 主分类号 H01L21/50
代理机构 代理人
主权项 1、一种集成电路植珠工艺,其特征如下:对待植珠的BGA芯片清理焊盘群(12),将焊盘群(12)上原来残留的锡珠和焊锡残渣清除后,用无水乙醇清洗焊盘群(12),保证无残留的污物;选择腐蚀性小的、无残留的助焊膏,在BGA芯片的焊盘群(12)上涂抹均匀,应该保证每一个焊盘群(12)的焊点上都涂有助焊膏;根据BGA芯片(13)的外形尺寸和焊点分布,选择与之配合的芯片定位架(7)和模板(15),把芯片放入植珠台本体(4)上的芯片定位架,并蒙上模板和模板架(9),仔细观察模板孔与芯片焊盘的位置关系,保证一一对应,使模板与芯片贴合;往模板上倒入一定数量的锡珠,使每个孔位的焊盘上落有一个锡珠,锡珠被助焊膏粘附在焊盘上;倾斜植珠台,使模板上多余的锡珠从排珠孔(8)流入排珠槽(2);取走模板和模板架,注意不要碰到芯片(13)上的锡珠;如果有少量锡珠偏离BGA焊盘,应该用镊子进行适当调整;小心取出芯片(13),用加热设备对芯片上下双向加热,一般情况下,芯片下方的加热温度约为90~100℃,上方的加热温度需根据环境温度及周围空气对流的情况而调整约为160~200℃,最好使用红外线加热设备,如果使用热风设备,必须注意减小送风量;当芯片(13)被加热到约180℃焊料开始浸润时,由于助焊剂和焊料表面张力的作用,锡珠将发生自动“对中”的过程——即每个焊盘上的锡珠会自动移动到焊盘的中心,这时,必须立即停止加热,避免锡珠进一步熔化;待芯片冷却后,植珠过程结束,此BGA芯片就已经修复;在上述植珠过程中,始终保持芯片的焊盘群向上。
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