荷电射束装置、荷电射束控制方法、基板检查方法及半导体装置之制造方法

摘要

本发明之荷电射束装置包含：荷电射束产生器，其产生荷电射束；投影光学系统，其产生使上述荷电射束成像于外部基板之透镜场；及偏转器，其以包围上述荷电射束之光轴之方式配置，并产生偏转场，该偏转场重叠于上述透镜场，使上述荷电射束偏转，控制照射至上述基板之位置，并以相应于上述荷电射束应入射至上述基板之角度而其强度于上述光轴方向变化之方式构成。