发明名称 自组单层(SELF-ASSEMBLED MONOLAYERS)之形成
摘要 本发明揭示一种于基板之至少一表面上形成自组单层(self–assembled monolayer;SAM)之方法,该方法藉由向该表面应用2–单–或2,2–双取代1,3–二硫代环戊烷,从而在该表面上形成由此制备之自组单层。093135161-p01.bmp
申请公布号 TW200540228 申请公布日期 2005.12.16
申请号 TW093135161 申请日期 2004.11.16
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 德克 布迪尼司克
分类号 C09D11/00;B05D1/28;G03F7/00;G03F7/16 主分类号 C09D11/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰