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发明名称 FABRICATING METHOD FOR INTERCONNECTION LINE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20050118153(A) 申请公布日期 2005.12.15
申请号 KR20050116282 申请日期 2005.12.01
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 CHOI, KYUNG IN;HAN, SUNG HO;LEE, SANG WOO;KIM, BYUNG HEE;LEE, HYUN BAE
分类号 H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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