浸润式光刻系统

摘要

本实用新型提供一种浸润式光刻系统。该光刻系统由一个光学表面、一个与光学表面的一部分接触且pH值小于7的浸润流体、以及一个上表面形成有光阻层的半导体结构所构成，其中该光阻层的部分表面与浸润流体接触。本实用新型提供的光刻系统，不仅提高了分辨率，还能避免浸润流体污染光阻层或光学透镜。

主权项

1.一种浸润式光刻系统，其特征在于该浸润式光刻系统包含：一个光学表面；一个用来支撑工作部件的支撑台座；一个配置于该光学表面和该支撑台座之间的浸润流体，该浸润流体的pH值小于7，且至少与该光学表面的一部份接触。