发明名称 增亮膜之改良结构
摘要 一种增亮膜之改良结构,其主要系于一基板上至少一表面设有波浪起伏之波浪弧面,并于该波浪弧面上设置复数平行延伸之棱肋单元,利用该基板之波浪弧面具有聚光或散光之效果,配合该棱肋单元折射聚光,可使光线穿透时更均匀且聚集。
申请公布号 TWM283199 申请公布日期 2005.12.11
申请号 TW094208514 申请日期 2005.05.25
申请人 致和光电有限公司 发明人 余凌荣
分类号 G02F1/1333 主分类号 G02F1/1333
代理机构 代理人
主权项 1.一种增亮膜之改良结构,其至少包括:一基板,至少一表面设有波浪起伏之波浪弧面;复数棱肋单元,设置于该基板之波浪弧面上,该棱肋单元系由二呈凸锥状衔接之折射平面所组成;藉由该基板之波浪弧面预先聚集或发散通过之光线再以该棱肋单元二折射平面配合折射聚光,可形成更均匀而明亮之透光效果。2.如申请专利范围第1项所述之增亮膜之改良结构,其中各棱肋单元系相互平行延伸。3.如申请专利范围第1或2项所述之增亮膜之改良结构,其中棱肋单元之凸锥状部位之尖端角度系于60度至150度之间。4.如申请专利范围第1或2项所述之增亮膜之改良结构,其中棱肋单元之间距系于10um至100um之间。5.如申请专利范围第3项所述之增亮膜之改良结构,其中棱肋单元之间距系于10um至100um之间。6.如申请专利范围第1或2项所述之增亮膜之改良结构,其中该基板之波浪弧面具有不同之曲率半径。7.如申请专利范围第6项所述之增亮膜之改良结构,其中该波浪弧面之曲率半径系于0.05mm至10mm之间。8.如申请专利范围第3项所述之增亮膜之改良结构,其中该基板之波浪弧面具有不同之曲率半径。9.如申请专利范围第8项所述之增亮膜之改良结构,其中该波浪弧面之曲率半径系于0.05mm至10mm之间。10.如申请专利范围第4项所述之增亮膜之改良结构,其中该基板之波浪弧面具有不同之曲率半径。11.如申请专利范围第10项所述之增亮膜之改良结构,其中该波浪弧面之曲率半径系于0.05mm至10mm之间。12.如申请专利范围第5项所述之增亮膜之改良结构,其中该基板之波浪弧面具有不同之曲率半径。13.如申请专利范围第12项所述之增亮膜之改良结构,其中该波浪弧面之曲率半径系于0.05mm至10mm之间。图式简单说明:第1图系本创作之立体构造示意图。第2图系本创作之平面构造示意图。
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