| 摘要 |
本发明提供一种在积体电路元件(10)之接触层(56)中形成改变节距及密度之复数个接触孔(20、2)之方法。该复数个接触孔(20、24)可以包含具有沿着第一方向以第一节距规则间置的复数个接触孔(20)及具有沿着第二方向以第二节距间置之复数个局部隔离的接触孔(24)。双偶极照射源(42、44)可以透过具有对应于所需的接触孔图案之图案的光罩(48)而传送光线能量。该双偶极照射源(42、44)可以包含第一偶极光圈(60)，该第一偶极光圈(60)为具有方向及最佳化用于摹制该规则间置的接触孔(20)，以及第二偶极光圈(62)，该第二偶极光圈(62)为朝向实质上正交于该第一偶极光圈(60)及最佳化用于摹制该复数个局部隔离的接触孔(24)。该接触层(56)可以使用该摹制的光阻层(58)而蚀刻。 |
