| 发明名称 |
VERFAHREN ZUR DOSIERUNG VON ELEMENTEN AUS EINEM SUBSTRAT FÜR OPTIK, ELEKTRONIK ODER OPTOELEKTRONIK |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60202049(T2) |
申请公布日期 |
2005.11.10 |
| 申请号 |
DE20026002049T |
申请日期 |
2002.02.12 |
| 申请人 |
S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES, BERNIN |
发明人 |
VIRAVAUX, LAURENT |
| 分类号 |
G01N27/62;C01B7/19;C01B33/107;G01N1/40;(IPC1-7):G01N1/40;H01L21/00 |
主分类号 |
G01N27/62 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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