发明名称 |
压电性氧化物单晶之抑制带电处理方法及抑制带电处理装置 |
摘要 |
本发明系提供一种在无损害压电性之前提下,能够抑制钽酸锂单晶及铌酸锂单晶的带电之处理方法,以及能够易于实施该处理方法之处理装置。本发明之解决方式,系将由钽酸锂单晶或铌酸锂单晶制成之晶片50,及含有金属化合物之还原剂60收容至处理容器2中,将该处理容器2内部之压力降低,并且将其温度保持在200℃以上1000℃以下之状态,进行晶片还原处理。 |
申请公布号 |
TW200535284 |
申请公布日期 |
2005.11.01 |
申请号 |
TW094113247 |
申请日期 |
2005.04.26 |
申请人 |
山寿瑟拉密克斯股份有限公司 |
发明人 |
堀田和利;菅野和也;宫川大作;仓知雅人;俣武治;佐桥家隆 |
分类号 |
C30B29/30 |
主分类号 |
C30B29/30 |
代理机构 |
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代理人 |
洪尧顺 |
主权项 |
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地址 |
日本 |