发明名称 雷射晶体化装置及雷射晶体化方法
摘要 一种雷射晶体化装置(1),其促成数μm之一高空间解析度及数毫微秒之一高瞬时解析度的观测,包括一用来向在一基板(26)上提供之一薄膜辐照一雷射光并且熔化及晶体化该薄膜的晶体化光学系统(2),该雷射结晶化装置(1)包括:一照明光源(31),其被配置在该雷射光之一光学路径外且发出一观测用照明光以照明该薄膜;一照明光学系统(3),其包含一环状光学元件(3A),该元件在具有该雷射光之光学路径,且其将该照明光从该照明光源(31)沿该光学路径导引到该薄膜;及一观测光学系统(4),其显示包含该薄膜之该基板(26)的一放大影像。
申请公布号 TW200535917 申请公布日期 2005.11.01
申请号 TW094106367 申请日期 2005.03.02
申请人 液晶先端技术开发中心股份有限公司 发明人 高见芳夫
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 蔡清福
主权项
地址 日本