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发明名称
Inductively Coupled Plasma Processing Appratus having internal linear antenna for large area processing
摘要
申请公布号
KR100523851(B1)
申请公布日期
2005.10.27
申请号
KR20030028849
申请日期
2003.05.07
申请人
发明人
分类号
H05H1/26;H01J37/32;(IPC1-7):H05H1/26
主分类号
H05H1/26
代理机构
代理人
主权项
地址
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