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发明名称 POSITIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION
摘要
申请公布号 KR100524446(B1) 申请公布日期 2005.10.26
申请号 KR19990010737 申请日期 1999.03.29
申请人 发明人
分类号 G03F7/039;G03F7/004;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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