光学扫描装置

摘要

一种光学扫描装置(1)，用于在两种工作模式下借助两个辐射束(4)扫描两个信息层(2，2’)。它包括：辐射源(7)，用于发射所述两个辐射束；物镜系统(8)，用于将所述两个辐射束会聚到所述两个信息层的位置上；和相结构(24)，具有光轴并且包括用于在径向上形成非周期性的阶梯状剖面的中心部分(P₁)和至少一个边际部分(P₂)。所述中心部分和边际部分(P₁，P₂)之一(P₂)至少包括分别具有两种阶梯高度(h_2.1，h_2.2)的两段(AS_2.1，AS_2.2)，用于在所述第一工作模式下分别引入两种波前变形ΔW_2.1.1和ΔW_2.2.1，和在所述第二工作模式下分别引入两种波前变形ΔW_2.1.2和ΔW_2.2.2，其中差(ΔW_2.1.2+ΔW_2.2.2)－(ΔW_2.1.1+ΔW_2.2.1)是不对称的。

主权项

1.一种光学扫描装置，用于在第一工作模式下借助第一辐射束扫描第一信息层，和在第二工作模式下借助第二辐射束扫描第二信息层，该装置包括：-辐射源，用于相继地或同时地发射所述第一和第二辐射束，-物镜系统，用于将所述第一和第二辐射束分别会聚到所述第一和第二信息层的位置上，和-相结构，设置在所述第一和第二辐射束的光路中，该结构具有光轴并且包括用于在径向上形成非周期性的阶梯状剖面的中心部分(P1)和至少一个边际部分(P2)，其特征在于，所述中心部分和边际部分(P1，P2)之一(P2)至少分成分别具有第一阶梯高度(h2，1)和相异的第二阶梯高度(h2，2)的第一角形段(AS2，1)和第二角形段(AS2，2)，用于在所述第一工作模式下分别引入第一波前变形ΔW2，1，1和第二波前变形ΔW2，2，1，和在所述第二工作模式下分别引入第三波前变形ΔW2，1，2 和第四波前变形ΔW2，2，2，其中差(ΔW2，1，2+ΔW2，2，2)-(ΔW2，1，1+ΔW2，2，1)关于所述光轴(19)是不对称的。