| 摘要 |
〔课题〕提供一种在半导体、液晶等之电子材料的湿式洗净步骤、表面处理步骤等中，可稳定地将指定臭氧浓度之臭氧水供给到使用点的臭氧水供给方法及臭氧水供给装置。〔解决手段〕一种臭氧水供给方法，其特征为：将存在有臭氧分解抑制物质的臭氧水输送到使用点，在使用点近旁藉由浓度调整手段降低为指定臭氧浓度；以及一种臭氧水供给装置，其特征为具有：使臭氧气体溶解于纯水中以调制臭氧水的臭氧溶解装置；将臭氧分解抑制物质供给到纯水或臭氧水的手段；将由臭氧溶解装置所调制的臭氧水输送到使用点的臭氧水输送配管；及设于使用点近旁且将由臭氧水输送配管所输送的臭氧水降低至指定臭氧浓度的浓度调整手段。 |
