用于等离子体工艺系统中的改进的挡板的方法和装置

摘要

本发明提出了用于等离子体工艺系统的一种改进的挡板，其中挡板的设计和制作在工艺空间内方便地提供了一个均匀的工艺等离子体，以及基本上最小地腐蚀挡板。

主权项

1.一种在等离子体工艺系统中的改进的挡板，包括：一个曲线环，包括一个上表面，一个下表面，一个耦合到所述上表面和所述下表面的内径向边缘，一个耦合到所述上表面和所述下表面的外径向边缘，以及至少一个耦合到所述上表面和所述下表面的通路，它的配置允许气流通过，其中所述上表面包括与外径向边缘接近的第一配合表面，所述下表面包括与所述外径向边缘接近的第二配合表面，所述内径向边缘包括一个内边缘表面，以及所述至少一个通路中的每一个包括一个内部通路表面；以及一层保护阻挡层，耦合到所述挡板的多个暴露表面，其中所述暴露表面包括除所述第一配合表面外的所述上表面，除所述第二配合表面外的所述下表面，所述内径向边缘的所述内边缘表面，以及每一个所述至少一个通路的所述内通路表面。