发明名称 |
制备层和层系统的方法以及涂敷的基材 |
摘要 |
为制备具有功能层的基材,该基材具有高的光学性能和/或高的表面平滑度,特别是低的浊度和显著更低的粗糙度,本发明提供对基材涂敷至少一个功能层的溅射方法,其中涂敷功能层的溅射方法被中断至少一次并施加厚度小于20nm的夹层,本发明还涉及由该方法制备的涂敷的基材。 |
申请公布号 |
CN1681745A |
申请公布日期 |
2005.10.12 |
申请号 |
CN03821784.8 |
申请日期 |
2003.09.13 |
申请人 |
肖特股份公司 |
发明人 |
C·默勒;L·贝维格;F·科佩;T·屈佩尔;S·盖斯勒;S·鲍尔 |
分类号 |
C03C17/34;H05B3/74;C04B41/45;C23C16/00;C23C4/12;C03C17/36;C23C14/00 |
主分类号 |
C03C17/34 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
吴亦华 |
主权项 |
1.一种采用至少一个功能层(2)涂敷基材(1)的方法,包括如下步骤:a)在真空系统(5)中提供基材(1)和层起始材料,和b)通过层起始材料的溅射对基材(1)涂敷功能层(2),其特征在于,b1)中断用于对基材(1)涂敷功能层(2)的层起始材料的溅射至少一次并制备夹层(4),它不同于功能层且厚度为≤20nm,b2)在中断之后继续层起始材料的溅射。 |
地址 |
德国美因茨 |