发明名称 |
Verfahren zur elektrostatischen Strukturierung einer Substratoberfläche und Rastersonden-Lithographieverfahren damit |
摘要 |
Es wird ein Verfahren zur elektrostatischen Strukturierung einer Substratoberfläche (1a) durch Positionieren einer an einem Biegebalken (5) eines atomaren Kraftmikroskops angebrachten Spitze (4) über dem Substrat (1), wobei zwischen dem Substrat (1) und der Spitze (4) eine elektrische Gleichspannung angelegt wird, wobei der Abstand der Spitze (4) von dem Substrat (1) und die Gleichspannung so gewählt werden, daß in einem im wesentlichen unterhalb der Spitze (4) befindlichen Bereich (17) des Substrats (1) Substratmaterial von der Spitze (4) elektrostatisch angezogen wird und das Substrat (17) an der Substratoberfläche (1a) dadurch zumindest teilweise abgetragen wird, beschrieben. Dabei wird ein Substrat (1) verwendet, das zumindest an der Oberfläche (1a) aus Molekülen mit begrenzter Ausdehnung gebildet ist, die untereinander im wesentlichen durch van der Waals-Kräfte gebunden sind. Ebenso wird ein Rastersonden-Lithographieverfahren damit beschrieben.
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申请公布号 |
DE102004012179(A1) |
申请公布日期 |
2005.09.29 |
申请号 |
DE200410012179 |
申请日期 |
2004.03.10 |
申请人 |
UNIVERSITAET KASSEL |
发明人 |
RANGELOW, IVO;PEDRAK, ROBERT;IVANOV, TZVETAN |
分类号 |
G03F7/20;(IPC1-7):B82B3/00;B81C1/00;G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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