| 发明名称 | 可聚合组合物,聚合物,抗蚀剂及蚀刻方法 | ||
| 摘要 | 本发明系关于一可聚合的组成物，其用以制造一抗蚀剂，包含至少一未饱和的、可聚合的单体(I、II)，其具有至少一个硅原子以及至少一个羰基。本发明亦关于一藉由该组成物所聚合而制造之抗蚀剂以及光刻方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1675589A | 申请公布日期 | 2005.09.28 |
| 申请号 | CN03817362.X | 申请日期 | 2003.07.21 |
| 申请人 | 因芬尼昂技术股份公司 | 发明人 | K·埃里安 |
| 分类号 | G03F7/075;C08F30/08;C08F230/08;G03F7/039 | 主分类号 | G03F7/075 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 卢新华;李连涛 |
| 主权项 | 1.一种用于抗蚀剂制造之可聚合组成物，包含至少一未饱和的、可聚合的单体，其具有至少一个硅原子以及至少一个羰基基团。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||