| 发明名称 |
FORMATION OF PROJECTIONS AND SPACERS AND RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG114706(A1) |
申请公布日期 |
2005.09.28 |
| 申请号 |
SG20050000681 |
申请日期 |
2005.02.07 |
| 申请人 |
JSR CORPORATION |
发明人 |
MISATO HANAMURA;SHIGERU ABE |
| 分类号 |
G03F7/027;G02F1/1337;G02F1/1339;G03F7/004;G03F7/032;G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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