| 主权项 |
1.一种定位套件,适用于一搬运系统与一载入埠之 间的定位,包括: 一讯号发射单元,其系置于该搬运系统及该载入埠 二者中的一者上;以及 一定位板,其系置于该搬运系统及该载入埠二者中 的另一者上,其中 该讯号发射单元上有二定位点可产生二光束射向 该定位板; 该定位板上对应于该二定位点处有二孔洞,亦即, 当该二孔洞在该定位板呈水平之状态下对准该二 定位点时,该载入埠即对准该搬运系统;以及 当该二光束可垂直于水平状态之该定位板而穿过 该二孔洞时,即表示该载入埠已对准该搬运系统。 2.如申请专利范围第1项所述之定位套件,其中该二 光束为二雷射光束。 3.如申请专利范围第1项所述之定位套件,其中该定 位板上刻有通过该二孔洞的座标轴。 4.如申请专利范围第1项所述之定位套件,其中该定 位板更包括至少一光束监测装置,以监测穿过该二 孔洞之该二光束中至少一者的准直性。 5.如申请专利范围第4项所述之定位套件,其中该光 束监测装置包括一光投射板及一反射镜,且该光束 系由该反射镜反射至该光投射板上。 6.如申请专利范围第1项所述之定位套件,其中该定 位板上更包括一水平仪。 7.如申请专利范围第1项所述之定位套件,其中该定 位板位于该讯号发射单元的下方。 8.如申请专利范围第7项所述之定位套件,其中该讯 号发射单元系为一定位用之前开式晶圆夹盒(FOUP), 其系置于该搬运系统上,且系从底部发出该二光束 射向下方之该定位板。 9.一种定位套件,包括: 一讯号产生单元与一定位单元,其中 该讯号产生单元系置于欲对准之二物体中的一者 上,该讯号产生单元具有二定位点,且该二定位点 可产生二光束射向该定位单元;以及 该定位单元系置于该二物体中的另一者上,该定位 单元上的二特定位置具有二孔洞,而当该二物体对 准时,该二光束可以特定方向穿过该定位单元上的 该二孔洞。 10.如申请专利范围第9项所述之定位套件,其中该 定位单元有一平坦顶面,且当该二物体对准时,该 二光束系垂直于该平坦顶面而穿过该二孔洞。 11.如申请专利范围第10项所述之定位套件,其中该 平坦顶面上刻有通过该二孔洞的座标轴。 12.如申请专利范围第10项所述之定位套件,其中该 定位单元更包括一水平仪。 13.如申请专利范围第9项所述之定位套件,其中该 二光束为二雷射光束。 14.如申请专利范围第9项所述之定位套件,其中该 定位板更包括至少一光束监测装置,以监测穿过该 二孔洞之该二光束中至少一者的方向。 15.如申请专利范围第14项所述之定位套件,其中该 光束监测装置包括一光投射板及一反射镜,且该光 束系由该反射镜反射至该光投射板上。 16.一种定位方法,其系用以进行一载入埠与一搬运 系统间的直接定位,至少包括: (a)提供一定位板,并将其置于该载入埠上,该定位 板上有二孔洞; (b)提供一讯号发射单元,并将其置于该搬运系统上 ,该讯号发射单元上有二定位点可产生二光束射向 该定位板,且该二定位点之位置对应于该二孔洞; (c)使该定位板呈水平状态; (d)使该讯号发射单元产生二光束射向该定位板,并 令该二光束与该定位板之表面垂直; (e)由该二光束在该定位板上产生的二光点与该二 孔洞的相对位置,得知该载入埠的平移偏差与旋转 偏差;以及 (f)根据该平移偏差与该旋转偏差调校该载入埠,直 至该二光束可穿过该二孔洞为止。 17.如申请专利范围第16项所述之定位方法,其中使 该定位板呈水平状态的方法包括使用一水平仪来 调校该载入埠。 18.如申请专利范围第16项所述之定位方法,其中该 定位板更包括至少一光束监测装置,且该方法更包 括: (g)使用该光束监测装置监测该二光束中至少一者 的准直性,并据以调校该至少一光束的方向;以及 重覆步骤(e)与(f),再观察该二光束是否可在垂直于 水平之该定位板的状态下穿过该二孔洞;如是即表 示该载入埠已对准该搬运系统,如否则依序重覆进 行步骤(g)、(e)与(f)至少一轮,直至该二光束可在垂 直于水平之该定位板的状态下穿过该二孔洞为止 。 19.如申请专利范围第18项所述之定位方法,其中该 光束监测装置包括一光投射板及一反射镜,且该光 束系由该反射镜反射至该光投射板上。 20.如申请专利范围第19项所述之定位方法,其中在 监测任一光束的准直性时,系以该光束照射在对应 之光投射板上的位置的变化作为依据。 图式简单说明: 第1图绘示本发明较佳实施例之定位套件及其使用 情形。 第2图绘示本发明较佳实施例之定位套件中,(a)作 为讯号发射单元之定位用前开式晶圆夹盒(FOUP)的 下视图,以及(b)定位板的上视图。 第3图绘示本发明较佳实施例之定位方法中,定位 板的使用情形。 第4图绘示本发明较佳实施例之定位套件中,以定 位板中的光束监测装置监测光束之准直性的情形, 其中图(a)为光束垂直于定位板面入射的情形,图(b) 为光束非垂直于定位板面入射的情形。 |
