发明名称 |
具有双扩散体分布的沟槽MOSFET器件及制造方法 |
摘要 |
说明了一种沟槽MOSFET器件及其制作方法。该沟槽MOSFET包括:(a)第一导电类型的衬底;(b)衬底上的第一导电类型的外延层,该外延层的多数载流子浓度低于衬底;(c)在外延层中的多个沟槽;(d)第一绝缘层,例如氧化物层,衬于沟槽中;(e)导电区域,例如多晶性硅区域,位于靠近第一绝缘层的沟槽中;(f)一个或多个沟槽体区和一个或多个端部体区,它们位于外延层的上部分,端部体区延伸到外延层内的深度大于沟槽体区;每个沟槽体区和每个端部体区包括(1)第二导电类型的第一区域,该第二导电类型与第一导电类型相反,和(2)靠近第一区域的第二导电类型的第二区域,该第二区域的多数载流子浓度高于第一区域,而且第二区域位于第一区域的上面;和(g)第一导电类型的多个源区,位于沟槽体区的上部、并靠近沟槽。 |
申请公布号 |
CN1220273C |
申请公布日期 |
2005.09.21 |
申请号 |
CN01811188.2 |
申请日期 |
2001.06.14 |
申请人 |
通用半导体公司 |
发明人 |
石甫渊;苏根政 |
分类号 |
H01L29/78;H01L21/336;H01L29/06 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
谷惠敏;袁炳泽 |
主权项 |
1.一种沟槽MOSFET器件,包括:第一导电类型的衬底;衬底上的第一导电类型的外延层,所述的外延层的多数载流子浓度低于衬底;在所述的外延层中的多个沟槽;第一绝缘层,衬于所述的沟槽中;导电区域,位于靠近第一绝缘层的沟槽中;一个或多个沟槽体区和一个或多个端部体区,它们位于所述的外延层的上部分,所述的端部体区延伸到所述的外延层内的深度大于所述的沟槽体区;每个沟槽体区和每个端部体区包括(a)第二导电类型的第一区域,所述的第二导电类型与所述的第一导电类型相反,和(b)靠近所述的第一区的第二导电类型的第二区域,所述的第二区域的多数载流子浓度高于所述的第一区域,而且所述的第二区域位于所述的第一区域的上面,并且邻近和延伸到所述的多个沟槽中的一个的外壁;和所述的第一导电类型的多个源区,位于沟槽体区的上部、并靠近沟槽。 |
地址 |
美国纽约 |