抛光用组合物及抛光方法

摘要

本发明的抛光用组合物能合适地使用在硅片的抛光用途上。该抛光用组合物含有二氧化硅、碱性化合物、阴离子型表面活性剂及水。二氧化硅是胶体二氧化硅、气相二氧化硅或沉淀法二氧化硅。所述碱性化合物例如是氢氧化钾、氢氧化钠、氨、氢氧化四甲基铵、无水哌嗪或六水合哌嗪。阴离子型表面活性剂是选自磺酸型表面活性剂、羧酸型表面活性剂及硫酸脂型表面活性剂中的至少一种。

主权项

1、一种用于硅片抛光用途的抛光用组合物，其特征在于，该抛光用组合物含有二氧化硅、碱性化合物、阴离子型表面活性剂及水，所述阴离子型表面活性剂是选自磺酸型表面活性剂、羧酸型表面活性剂及硫酸脂型表面活性剂中的至少选一种。