| 发明名称 | 含卤素芳族化合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及含卤素芳族化合物及其制备方法。本发明涉及含卤素芳香族酸二酸酐、含卤素芳族四腈化合物、含卤素间苯二胺化合物和氟化合物，以及其制备方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1219775C | 申请公布日期 | 2005.09.21 |
| 申请号 | CN02119176.X | 申请日期 | 2002.05.13 |
| 申请人 | 株式会社日本触媒 | 发明人 | 桑原正芳;奥村康则 |
| 分类号 | C07D307/83;C07C255/54;C07C65/21;C07C253/30;C07C51/363;C07C211/54;C07B39/00 | 主分类号 | C07D307/83 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王景朝;罗才希 |
| 主权项 | 1.一种含卤素间苯二胺化合物，其由式31表示：<img file="C021191760002C1.GIF" wi="760" he="306" />其中X是溴原子，m为1到3的整数，n为3到1的整数，并且n和m的和为4。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||