发明名称 |
基板处理装置、基板处理方法及程序 |
摘要 |
作为基板处理装置的蚀刻处理装置(100),设置有搬送批次中包含的基板的旋转型臂(103);与对基板实施作为制品处理的蚀刻处理的处理室(106、107),由注册有搬送处方、制品处理用处方、模拟处理用处方的主机(200)所控制。主机(200)在处理室(106、107)的各自放置时间、即室放置时间不是超时时,判别在对前批次的蚀刻处理中所使用的处理室内的处理气氛为稳定状态,省略模拟处理,对批次基板实施蚀刻处理。由此提供能够使制品基板的生产性提高的基板处理装置。 |
申请公布号 |
CN1664987A |
申请公布日期 |
2005.09.07 |
申请号 |
CN200510051583.1 |
申请日期 |
2005.03.07 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
山崎悟史;桥本充 |
分类号 |
H01L21/02;G05B19/418;G05B15/02 |
主分类号 |
H01L21/02 |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
1、一种基板处理装置,其特征在于:该基板处理装置设置有用于对作为被处理体的基板实行规定处理的至少一个处理室、对于非制品基板实行模拟处理的模拟处理单元、以及判别所述模拟处理的实行是否必要的判别单元,所述判别单元包含判别所述处理室内的状态是否稳定的稳定判别部件,所述模拟处理单元包含在由所述稳定判别部件判别了所述处理室内的状态是稳定状态时省略所述模拟处理的实行的模拟处理省略部件。 |
地址 |
日本东京都 |