发明名称 一种具有光吸收掩模的装置及其加工方法
摘要 本发明提供了一种用于加工光学装置的方法,该光学装置包括在透明衬底上形成的至少一个光学元件。该方法包括确定将吸收光的所述衬底的一个区域;和在加工所述至少一个光学元件之前,在所确定的区域上加工一个光吸收掩模。本发明也提供了一种光学装置,其包括衬底(102);以及在所述衬底上形成的第一和第二光学元件,其中所述第一光学元件(104)有两个模式,每个模式对所述第一光学元件上的光入射都产生不同的光响应,且其中所述第二光学元件(108)吸收光,并且先于所述第一光学元件在所述衬底上形成。
申请公布号 CN1666138A 申请公布日期 2005.09.07
申请号 CN03815325.4 申请日期 2003.06.27
申请人 IDC公司 发明人 M·W·迈尔斯
分类号 G02F1/03;G02B1/10;G02B26/00;G02B6/12;G03F9/00;G03C5/00 主分类号 G02F1/03
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 赵蓉民
主权项 1.一种用于加工光学装置的方法,该光学装置包括在一个透明衬底上形成的至少一个作用光学元件,所述方法包括:确定将吸收光的所述衬底的一个区域,其中所述的所确定的区域横向偏离所述至少一个作用光学元件;和在加工所述至少一个作用光学元件之前,在所述的所确定的区域上加工一个光吸收掩模。
地址 美国加利福尼亚州