快闪记忆胞的制造方法

摘要

一种快闪记忆胞的制造方法，此方法系先提供基底，然后于基底上形成图案化之罩幕层。之后，以图案化之罩幕层为罩幕，蚀刻此基底，以于基底中形成沟渠。继之，在于基底上形成第一介电层后，于沟渠侧壁形成第一闸极及第二闸极。接着，于沟渠底部之基底中形成第一源极／汲极区。继之，于基底上形成第二介电层后，于第二介电层上形成保护层。然后，移除部分之保护层、第二介电层与第一介电层。接着，在于沟渠中填满第三闸极后，移除罩幕层。之后，于基底上形成第三介电层。继之，于第一闸极与第二闸极的侧壁形成第四闸极及第五闸极后，于第四闸极及第五闸极侧边之基底形成第二源极／汲极区。