发明名称 紫外线抹除型半导体记忆装置
摘要 本发明提供一种紫外线抹除型半导体记忆装置,其课题系在EPROM之记忆单元具备2个MOSFET,利用差动放大器检测出2个MOSFET之电流差,以读取资料之构成中,藉由紫外线照射抹除资料时,差动放大器之输出会变得不一定,且难以进行初始化之确认。其系使构成记忆单元的2个MOSFET中一个的通道宽度(WA)比另一个的通道宽度(WB)窄地形成。由此,在照射紫外线后的初始化状态下,具有通道宽度(WA)的MOSFET的资料信号电流(IHA)将比流通于通道宽度(WB)的MOSFET的资料信号电流(IHB)更小。由此,差动放大器的输出可根据IHA<IHB的电流大小关系来确定,被定义为资料值“0”。另一方面,在写入资料“1”时,将电荷注入通道宽度(WB)的MOSFET的浮动闸极电极(36),提高阈值电压(Vt),使MOSFET成为不导通状态。
申请公布号 TW200529415 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW094102097 申请日期 2005.01.25
申请人 三洋电机股份有限公司 发明人 熊谷幸久
分类号 H01L27/10 主分类号 H01L27/10
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本