发明名称 正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要 本发明系提供能减少线缘粗糙度(line edge roughnress),及具有优良解像性之正型光阻组成物。该组成物系含有(A)酸作用下可增加硷可溶性之树脂成分用,具有含多环式基之酸解离性溶解抑制基的(甲基)丙烯酸酯所衍生之构成单位(a1),具有含内酯之单环或多环式基的(甲基)丙烯酸酯所衍生之构成单位(a2),具有含羟基之多环式基的(甲基)丙烯酸酯所衍生之构成单位(a3)及构成单位(a2)、(a3)以外的具有含多环式基之非酸解离性溶解抑制基的(甲基)丙烯酸酯所衍生之构成单位(a4)的共聚物,以及(B)曝光下会产酸之酸发生剂用,下列一般式(b–1)或(b–2)所示至少一种之化合物。
申请公布号 TW200528923 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW093138146 申请日期 2004.12.09
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 羽田英夫;竹下优;林亮太郎;松丸省吾
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本