发明名称 铜电解液之过滤方法
摘要 本发明系改善所谓从前的预涂法的一种过滤方法,提供可以将微小的电解生成物和污物的除去而且可以使过滤效率大大地提升的铜电解液的过滤方法。本发明系关于经由使铜电解液通过已预涂过滤助剂的过滤单元,而让对铜电解有影响之电解生成物和污物从铜电解液中除去的铜电解液的过滤方法,首先由往过滤单元的过滤助剂形成预涂层,然后在形成有该预涂层的过滤单元上,使含有粉状活性炭的活性炭预备处理液通过,并且使该活性炭预备处理液循环直到从过滤单元的出口侧的粉状活性炭没有漏出,而且在往预涂层上形成粉状活性炭层,之后使铜电解液通过而进行过滤。
申请公布号 TWI238860 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW090108901 申请日期 2001.04.13
申请人 三井金属业股份有限公司 发明人 锅仓一好;平泽裕;高桥直臣
分类号 C25D3/38;B01D37/02 主分类号 C25D3/38
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项 1.一种铜电解液的过滤方法,经由使铜电解液通过 已预涂过滤助剂的过滤单元,而将对铜电解有影响 之电解生成物和污物从铜电解液中除去的方法; 其特征在于: 事先在过滤单元上,以过滤助剂形成一预涂层; 在形成有该预涂层的过滤单元上,使含有粒径50筛 号(mesh)以下的粉状活性炭之活性炭预备处理液通 过,并且使该活性炭预备处理液循环,直到从过滤 单元的出口侧没有粉状活性炭漏出,在预涂层上形 成粉状活性炭层; 之后使铜电解液通过而过滤。 2.如申请专利范围第1项所述的铜电解液的过滤方 法,其中形成预涂层和粉状活性炭层交互地重叠的 状态。 3.如申请专利范围第1或2项所述的铜电解液的过滤 方法,其中该粉状活性炭层的厚度系2~20mm。 4.如申请专利范围第1或2项所述的铜电解液的过滤 方法,其中该过滤助剂系由3~40m粒径的矽藻土所 构成,3~15m粒径的矽藻土和16~40m粒径的矽藻土 以7:3的比例混合而成。 5.如申请专利范围第3项所述的铜电解液的过滤方 法,其中该过滤助剂系由3~40m粒径的矽藻土所构 成,3~15m粒径的矽藻土和16~40m粒径的矽藻土以7 :3的比例混合而成。 图式简单说明: 第1图系显示在本发明中所使用的过滤装置的示意 图。 第2图系显示高流量超胞(high flow super cell)的粒度 分布图。 第3图系显示预涂(pre-coat)层以及粉状活性炭层的 剖面示意图。
地址 日本