| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer dünnen Schicht auf einem Halbleitersubstrat |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60104753(T2) |
申请公布日期 |
2005.09.01 |
| 申请号 |
DE20016004753T |
申请日期 |
2001.03.19 |
| 申请人 |
ASM JAPAN K.K., TAMA |
发明人 |
FUKUDA, HIDEAKI;ARAI, HIROKI |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/458;H01L21/205;H01L21/683;(IPC1-7):C23C16/44 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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