| 摘要 |
兹提供一种与一附加方法合并且对于晶格损伤敏感之方法(也称为「主要方法」)，该附加方法可独立测量主要方法会敏感之两种参数的一者，即剂量及能量。在某些实施例中，该附加方法系对于剂量敏感，并且在两个此类实施例中，分别使用4PP(四点探针量测仪)和SIMS(二次离子质谱仪)来测量剂量(不受能量所影响)。在其他实施例中，该附加方法系对于能量敏感，并且在一个此类实施例中，使用SIMS来测量能量(不受剂量所影响)。此种附加方法之使用解决了先前技艺测量中单独运用该主要方法的不明确性。在某些实施例中系合并使用两种方法，以决定将两个或多个离子布植机彼此匹配或与一参考离子布植机匹配或与一电脑模型匹配时所需之调整。 |
