发明名称 |
具有-二酮合配位基之金属错合物及含金属薄膜的制造方法 |
摘要 |
本发明系提供适用于利用CVD法制造金属薄膜之方法的新颖之β–二酮合金属错合物。其为下列式所示之金属错合物:093131152-p01.bmp〔式中,X为特定构造之矽烷基醚基;Y为该矽烷基醚基或烷基;Z为氢原子或烷基;M为Lu、Ir、Pd、Ni、V、Ti、Zr、Hf、Al、Ga、In、Sn、Pb、Zn、Mn、It、Cr、Mg、Co、Fe或Ag;n为金属原子M之价数〕。093131152-p01.bmp |
申请公布号 |
TW200526802 |
申请公布日期 |
2005.08.16 |
申请号 |
TW093131152 |
申请日期 |
2004.10.14 |
申请人 |
宇部兴产股份有限公司 |
发明人 |
角田巧;长谷川千寻;绵贯耕平 |
分类号 |
C23C16/18;C07F7/18;C07F15/04 |
主分类号 |
C23C16/18 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |