发明名称 具有-二酮合配位基之金属错合物及含金属薄膜的制造方法
摘要 本发明系提供适用于利用CVD法制造金属薄膜之方法的新颖之β–二酮合金属错合物。其为下列式所示之金属错合物:093131152-p01.bmp〔式中,X为特定构造之矽烷基醚基;Y为该矽烷基醚基或烷基;Z为氢原子或烷基;M为Lu、Ir、Pd、Ni、V、Ti、Zr、Hf、Al、Ga、In、Sn、Pb、Zn、Mn、It、Cr、Mg、Co、Fe或Ag;n为金属原子M之价数〕。093131152-p01.bmp
申请公布号 TW200526802 申请公布日期 2005.08.16
申请号 TW093131152 申请日期 2004.10.14
申请人 宇部兴产股份有限公司 发明人 角田巧;长谷川千寻;绵贯耕平
分类号 C23C16/18;C07F7/18;C07F15/04 主分类号 C23C16/18
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本