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发明名称
Optical attenuator device, radiation system and lithographic apparatus therewith and device manufacturing method
摘要
申请公布号
EP1555573(A3)
申请公布日期
2005.08.03
申请号
EP20040078467
申请日期
2004.12.21
申请人
ASML NETHERLANDS BV
发明人
LUIJKX, CORNELIS PETRUS ANDREAS MARIE;BANINE, VADIM YEVGENYEVICH;BOTMA, HAKO;VAN DUIJNHOVEN, MARTINUS
分类号
G02B26/02;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20
主分类号
G02B26/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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