| 主权项 |
1.一种可连续制造雷射全像膜之膜保护装置,其中此可连续制造雷射全像膜的装置具有一胶膜是藉着引导滚筒导引,经由环场成像滚筒与压印滚筒将胶膜未经印制的部分印上雷射全像图,通过环场成像滚筒与压印滚筒后,该可连续制造雷射全像膜的膜保护装置,其特征为一引导滚筒设置于胶膜原料卷轴和环场成像滚筒之间,一张力调整滚筒配置于该引导滚筒的垂直高处,又一引导滚筒配置于该环场成像滚筒和成品卷轴之间,以及另一张力调整滚筒配置于该引导滚筒的垂直高处。2.如申请专利范围第1项的装置,其中所指称用以支持张力调整滚筒的支撑元件至少包含有一特定尺寸的缺刻,以及在下部有一中央带孔的固定座,其中有一翼片插入凹槽当中为此凹槽所支撑并可依其状态上下反覆运动,支架当中插有一弹簧,此弹簧的下部是用一固定座支撑,在固定座的下部又装有一感应器。3.如申请专利范围第2项的装置,其中所指称的支架是设计好要固定带有弹簧的张力调整滚筒,可依施加于此张力调整滚筒的压力弹性地往下方移动,当此支架往下方移动时会穿过固定座中的孔,其穿越的程度是由安置在固定座下部的感应器测出,并依此控制转轴的动力。图式简单说明:第一图是依本发明所做出的雷射全像膜连续制造装置之正面图示;第二图是依本发明所做出的雷射全像膜连续制造装置当中滚筒配置的示意图;第三图是依本发明所做出的雷射全像膜之张力调整滚筒的细部图示;第四图是依本发明所做出的雷射全像膜之张力调整滚筒的运作图示;第五图是传统的雷射全像膜连续制造装置之张力调整结构示意图。 |
