图形形成方法

摘要

一种图形形成方法，在基板上形成抗蚀膜，并对已形成的抗蚀膜选择性地照射曝光光，接着，对已进行图形曝光的抗蚀膜进行显影，并使用含有环糊精的水溶液对经显影的抗蚀膜进行漂洗，从而由抗蚀膜得到已微细化的没有歪斜的抗蚀图形。

主权项

1、一种图形形成方法，该方法包含以下步骤：在基板上形成抗蚀膜；对所述抗蚀膜选择性地照射曝光光以进行图形曝光；图形曝光后，对所述抗蚀膜进行显影；和显影后，通过使用含有环糊精的水溶液对所述抗蚀膜进行漂洗而形成抗蚀图形。