供用于平坦化之抛光垫

摘要

本发明关于抛光垫。特别地，本发明之抛光垫包含一下层、中间层及一可用于作为一抛光层的顶层。本发明之抛光垫有用于抛光物件，及尤其可有用于例如半导体晶圆之微电子元件的化学机械抛光或平坦化。