镀膜装置和方法

摘要

本发明提供了一种镀膜装置，其能够容易地在材料的将要被镀膜的表面上形成均匀的镀膜。该镀膜装置包括：保持器，其用于保持材料，使材料的将要被镀膜的表面朝上，而且所述将要被镀膜的表面的周部被密封住；热流体容纳部分，其用于容纳热流体，所述热流体能够接触由保持器保持着的材料的背侧表面，以加热所述材料；以及镀液供应部分，其用于向由保持部分保持着的材料的将要被镀膜的表面供应镀液。

主权项

1.一种镀膜装置，包括：处理浴槽，其用于容纳处理液，以通过基片与处理液的接触而对基片进行处理；以及基片保持器，其用于以这样的状态保持基片，即基片的背侧表面被密封，而基片的将要被镀膜的表面被带到与处理液接触；其中，处理浴槽具有流体容纳部分，其用于容纳具有预定温度的流体，所述流体接触基片的背侧表面。