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发明名称 METHOD OF FORMING AN ISOLATION FILM IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20050064656(A) 申请公布日期 2005.06.29
申请号 KR20030096230 申请日期 2003.12.24
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 LEE, BYUNG SEOK
分类号 H01L21/76;(IPC1-7):H01L21/76 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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