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经营范围
发明名称 MANUFACTURING PROCESS FOR PHOTOMASK
摘要
申请公布号 KR20050063320(A) 申请公布日期 2005.06.28
申请号 KR20030094712 申请日期 2003.12.22
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 JUNG, HO YONG
分类号 G03F1/76;G03F1/68;G03F1/82;(IPC1-7):G03F1/08 主分类号 G03F1/76
代理机构 代理人
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